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EDI超純水設備滿足芯片生產用水的需求

2023-01-28

  芯片作為一種高精度的電子元件,具有集成度高、生產線窄、水質要求高的特點。傳統的超純水制備工藝通常采用離子交換樹脂,需要樹脂再生,既消耗材料資源又消耗勞動力。經過多年實踐,結合膜分離技術,采用反滲透、EDI裝置和混合床模塊化設計工藝制備超純水,出水電阻率可達到18mΩ*cm(25℃),滿足芯片制造用水要求,為芯片成品質量提供有力保證。

  芯片超純水設備幾乎可以完全去除水中的導電介質,并在很低程度上去除水中未分離的膠體物質、氣體和有機物。在制備超純水的過程中,無需酸堿再生,去除有害物質,減少繁瑣的工藝程序,穩定連續生產18.2mΩ·CM超純水,滿足芯片生產用水的需要。

EDI超純水設備

  超純水設備配備專業的濃水置換技術,可有效防止膜系統被微生物污染。通過完善的技術提高系統回收率,降低能耗和運行成本。萊特萊德專注于電子超純水領域,是一家集研發設計、設備制造、工程施工、運行維護為一體的環保解決方案服務提供商。除芯片行業外,該設備還廣泛應用于電力、造紙、日?;さ阮I域。

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