隨著半導體工業(yè)技術的快速發(fā)展，對超純水的要求和標準也在不斷提高，特別是對于線寬較小的集成電路，幾個金屬離子或灰塵顆粒就足以報廢整個電路。超純水作為半導體工業(yè)中重要的電子化學試劑之一，廣泛應用于半導體和化合物半導體設備的制造，其生產(chǎn)制備越來越受到重視。

　　目前，在市場上常見的超純水工藝中，離子交換工藝已被反滲透工藝所取代。反滲透工藝無需樹脂再生，可實現(xiàn)24小時連續(xù)產(chǎn)水，且制水生產(chǎn)過程中無廢酸、廢堿排放。萊特萊德的超純水設備搭載Ryperm技術的反滲透設備，提高硅和硼的去除率，提高系統(tǒng)的出水水質(zhì)。

　　萊特萊德可以為用戶提供更好的優(yōu)品超純水，解決傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)過程中能耗大、步驟多、成本高、產(chǎn)品純度低、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的問題，實現(xiàn)連續(xù)大規(guī)模生產(chǎn)，工藝簡單，配置合理有效，處理效率高，具有經(jīng)濟環(huán)保優(yōu)勢，確保生產(chǎn)水質(zhì)達到國標《電子級水》和美標《電子和半導體超純水質(zhì)標準》。

　　工藝流程：

　　原水進水→UF裝置→一級RO→二級RO→TOC裝置→EDI系統(tǒng)→氮封系統(tǒng)→TOC裝置→脫氣系統(tǒng)→靶向離子交換→終端過濾→用水點

　　萊特萊德采用獨特的靶向離子交換系統(tǒng)，定向去除超純水中難以處理的硼等離子體，確保出水硼離子穩(wěn)定≤5ppt。系統(tǒng)集成度高，雙操作系統(tǒng)，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。高純度超純水可連續(xù)穩(wěn)定生產(chǎn)，無需因樹脂再生而停機。設備日常維護簡單方便，設備耐用，使用壽命長。