隨著電子工業(yè)的發(fā)展,在芯片的生產(chǎn)加工過程中,對于水質(zhì)的要求也越來越高。為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路,除高純原材料、高純氣體、高純化學(xué)藥品外,高純水也是其中關(guān)鍵的因素之一。

　　高純水系統(tǒng)是將一般的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。超純水系統(tǒng)總體來說一般可分為三個部分:超純水制造區(qū)(CUB部分)、超純水拋光循環(huán)區(qū)(FAB部分)、超純水輸送管網(wǎng)(FAB各使用區(qū))。

　　其中超純水制造區(qū)復(fù)雜，其又可分為：預(yù)處理、一次純水處理、超純水處理三個部分。預(yù)處理部分主要包括：沙濾、活性碳塔(有的廠商在沙濾前還增設(shè)反應(yīng)槽、氣浮池);一次純水處理部分主要包括：陰陽離子交換塔、脫氣塔(DG)、保安過濾器、紫外線殺菌器及多級反滲透;超純水處理部分主要包括：MDG(脫氧膜組)、TOC-UV殺菌器、混床(MB)及終端過濾器。

　　考慮到在向工藝設(shè)備輸送高純水過程中，輸水管道會對水質(zhì)再次造成污染，因而在FAB內(nèi)一般都設(shè)立拋光循環(huán)系統(tǒng)。拋光循環(huán)系統(tǒng)主要以MB為核心，再加上超濾設(shè)備(UF)，以除去在向工藝生產(chǎn)線輸送純水的過程中，管網(wǎng)溶入水中的雜質(zhì)。

　　萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透加離子交換系統(tǒng)(或EDI)相結(jié)合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有運行成本低的優(yōu)點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子及半導(dǎo)體業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標(biāo)準(zhǔn)GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標(biāo)準(zhǔn)。