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受疫情影響，全球芯片短缺遲遲不見緩解，導致越來越多的供應中斷、工廠停工，目前，芯片生產和供給已成為歐洲各國和美國的戰略重點。芯片在生產過程中需要超純水清洗。一方面，芯片在加工過程中的微污染被清除，另一方面，純水中的微雜質可能會重新污染芯片，這無疑對產品有很大的影響。
隨著集成電路化程度的進一步提高，對水中污染物的要求將更加嚴格。由于集成電路用純水水質指數是由五家美國公司在20世紀60年代末提出的，每一代集成電路中的雜質將減少1/2~1/10。傳統的純水處理技術也將逐步淘汰，取而代之的是環保、操作簡單、成本低、運行穩定的新型系統技術。
芯片超純水采用雙級反滲透+EDI工藝，反滲透系統的功能是利用反滲透原理，主要去除水中溶解的鹽、有機物、膠體和大分子，降低水質中的離子含量。EDI是結合離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術，它不需要酸堿再生，是一種新的脫鹽方法。EDI不需要化學品再生，運行成本低。EDI系統自動化程度高，可以連續工作，出水水質良好穩定，出水電阻率低≥ 15mΩ·cm。
半導體芯片是數字和數字化產品的重要組成部分。從智能手機和汽車，到醫療保健、能源、通信和工業自動化的關鍵應用和基礎設施，芯片是現代數字經濟的核心。
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