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超純水設(shè)備可生產(chǎn)出芯片生產(chǎn)過程中的清洗用水超純水，保證了芯片的良品率。...
超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導(dǎo)體生產(chǎn)用水的需求。...
超純水設(shè)備采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經(jīng)濟合理等特點。...
萊特萊德生產(chǎn)的EDI超純水設(shè)備，主要采用的是兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，可以確保處理后的超純水水質(zhì)電阻率達到18.2MΩ.cm。...
萊特萊德生產(chǎn)的超純水處理設(shè)備，水質(zhì)電阻率達到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
萊特萊德超純水設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備高質(zhì)量的超純水，不會因樹脂再生而停止運行。...
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