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經過多年實踐，萊特萊德結合采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優點...

鋰電池超純水設備采用預處理、反滲透技術、超凈化處理和后處理方法，幾乎完全去除水中的導電介質，并將水中的非游離膠體物質、氣體和有機物去除到很低的程度。...

半導體行業在生產的時候需要大量的清洗水，隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。...

超純水設備作為芯片生產過程中的標準設備，通常采用反滲透水處理設備、電離子(EDI)設備和拋光混合床制造超純水，使其出水滿足芯片生產用水的需求，成為芯片產業復興的堅強后盾。...

萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，根據不同用戶的需求，定制設計不同水質要求和不同水流量要求的超純水設備，具有水質穩定、操作簡便、運行成本低、綠色環保、易于維護等優點...

超純水設備能為芯片行業提供優質的超純水支持，萊特萊德以多項創新技術為依托，根據不同客戶的需求，整合優勢技術為廣大用戶提供高效優質的售后服務及高性價比的產品，構建共贏新模式。...